PVD-Anlage – EVU-MSE-1

Mit der vom Lehrstuhl selbst gebauten Verdampfungsanlage „EVU-MSE-1“ können mittels physikalischer Gasphasenabscheidung dünne Schichten abgeschieden werden. Zwischen den Kupferelektroden können zwei Verdampfungs-Schiffchen befestigt werden, die mit einer Stromstärke bis maximal 210 A bzw. 360 A betrieben werden können. Die aktuelle Abscheiderate und Schichtdicke werden mittels eines Schwingquarz ermittelt. Der Probenteller kann während der Beschichtung in zwei verschiedenen Geschwindigkeiten rotieren, was zu einer homogenen Schichtdicke führt. Durch Halogen-Lampen, die sich in der Vakuumkammer über der Probenhalterung befinden, kann sowohl die Substrattemperatur während des Beschichtungsprozesses eingestellt als auch eine nachträgliche Wärmebehandlung ohne Unterbrechung des Vakuums durchgeführt werden.

Verantwortliche Mitarbeiter: